Temat: ultra-shallow ion implantation - Wspólny katalog bibliotek Konsorcjum Akademickiego

Skocz do pozycji: 1.

Tytuł:: Modelowanie rozkładu energetycznego jonów w plazmie w. cz. przez dopasowanie teoretycznych profili poimplantacyjnych do profilu uzyskanego z pomiarów SIMS
A novel method of energy distribution of ions in r. f plasma evaluation by compared fluorine distribution profiles simulated by SRIM with fluorine distribution profile obtained by SIMS
Autorzy:: Kalisz, M.
Beck, R. B.
Tematy:: plazma wysokiej częstotliwości
bardzo płytka implantacja jonów
profile rozkładu fluoru
reaktywne trawienie jonowe
RF plasma
ultra-shallow ion implantation
fluore distribution profiles
ion energy spectrum
reactive ion etching; Pokaż więcej
Dostawca treści:: BazTech

Artykuł

Skocz do pozycji: 2.

Tytuł:: Wykorzystanie metody Taguchi’ego do optymalizacji procesu ultra-płytkiej implantacji fluoru i azotu z plazmy w. cz.
Application of Taguchi method to optimization process of ultra-shallow fluorine and nitrogen implantation, from radio frequency plasma
Autorzy:: Kalisz, M.
Mroczyński, R.
Tematy:: ultra-płytka implantacja
RIE
metoda Taguchi
ultra-shallow implantation
reactive ion etchnig
Taguchi method; Pokaż więcej
Dostawca treści:: BazTech

Artykuł

Informacja