Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "RF plasma" wg kryterium: Temat


Wyświetlanie 1-24 z 24
Tytuł:
Wpływ parametrów plazmy MW/RF na właściwości warstw węglowych
Influence of MW/RF plasma parameters on the properties of carbon coatings
Autorzy:
Kaczorowski, W.
Niedzielski, P.
Klimek, L.
Kozanecki, M.
Mitura, S.
Tematy:
warstwy węglowe
plazma MW/RF
parametry plazmy MW/RF
carbon coatings
MW/RF plasma
MW/RF plasma parameters
Pokaż więcej
Dostawca treści:
BazTech
Pozycja nr 1: Wpływ parametrów plazmy MW/RF na właściwości warstw węglowych. Przejdź do szczegółów egzemplarza
Artykuł
Tytuł:
Post-processing of titanium 3D printouts with radio frequency plasma
Autorzy:
Grabarczyk, Jacek
Jastrzębski, Krzysztof
Wrotniak, Maciej
Tematy:
post-processing
plasma treatment
3D printing
titanium printouts
RF plasma
Pokaż więcej
Data publikacji:
2021
Wydawca:
Akademia Górniczo-Hutnicza im. Stanisława Staszica w Krakowie. Polskie Towarzystwo Biominerałów
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Pozycja nr 2: Post-processing of titanium 3D printouts with radio frequency plasma. Przejdź do szczegółów egzemplarza
Artykuł
Tytuł:
Study of wood surface pre-treatment by radio-frequency discharge plasma
Autorzy:
Novák, Igor
Sedliačik, Ján
Krystofiak, Tomasz
Lis, Barbara
Popelka, Anton
Kleinová, Angela
Matyašovský, Ján
Jurkovič, Peter
Bekhta, Pavlo
Tematy:
FTIR-ATR
RF plasma treatment
wood surface
water contact angle
hydrophilicity
Pokaż więcej
Dostawca treści:
BazTech
Pozycja nr 4: Study of wood surface pre-treatment by radio-frequency discharge plasma. Przejdź do szczegółów egzemplarza
Artykuł
Tytuł:
Ultra-płytka implantacja fluoru z plazmy w.cz. jako metoda poprawy właściwości elektro-fizycznych struktur MIS z dielektrykami bramkowymi wytwarzanymi metodą PECVD
Ultra-shallow fluorine implantation from r.f. plasma as a method for improvement of electro-physical properties of MIS structures with PECVD gate dielectric layers
Autorzy:
Kalisz, M.
Mroczyński, R.
Beck, R. B.
Tematy:
ultra-płytka implantacja
fluor
plazma w.cz.
MOS
PECVD
ultra-shallow implantation
fluorine
RF plasma
Pokaż więcej
Dostawca treści:
BazTech
Pozycja nr 6: Ultra-płytka implantacja fluoru z plazmy w.cz. jako metoda poprawy właściwości elektro-fizycznych struktur MIS z dielektrykami bramkowymi wytwarzanymi metodą PECVD. Przejdź do szczegółów egzemplarza
Artykuł
Tytuł:
Mechanizm wzrostu warstw GaN techniką epitaksji z wiązek molekularnych z plazmowym źródłem azotu
Mechanism of growth of GaN layers by molecular beam epitaxy with the use of RF plasma nitrogen source
Autorzy:
Kłosek, K.
Sobańska, M.
Żytkiewicz, Z. R.
Tematy:
epitaksja z wiązek molekularnych
PAMBE
GaN
plazmowe źródło azotu
molecular beam epitaxy
RF plasma nitrogen source
Pokaż więcej
Dostawca treści:
BazTech
Pozycja nr 7: Mechanizm wzrostu warstw GaN techniką epitaksji z wiązek molekularnych z plazmowym źródłem azotu. Przejdź do szczegółów egzemplarza
Artykuł
Tytuł:
Preparation of Nano Aluminium Powder (NAP) using a Thermal Plasma: Process Development and Characterization
Autorzy:
Pant, A.
Seth, T.
Raut, V. B.
Gajbhiye, V. P.
Newale, S. P.
Nandi, A. K.
Prasanth, H.
Pandey, R. K.
Tematy:
nano aluminium
thermal plasma
DC arc plasma
RF induction plasma
aluminium content
BET surface area
HR-TEM
Pokaż więcej
Dostawca treści:
BazTech
Pozycja nr 8: Preparation of Nano Aluminium Powder (NAP) using a Thermal Plasma: Process Development and Characterization. Przejdź do szczegółów egzemplarza
Artykuł
Tytuł:
Preparation of Nano Aluminium Powder (NAP) using a Thermal Plasma: Process Development and Characterization
Autorzy:
Pant, A.
Seth, T.
Raut, V. B.
Gajbhiye, V. P.
Newale, S. P.
Nandi, A. K.
Prasanth, H.
Pandey, R. K.
Tematy:
nano aluminium
thermal plasma
DC arc plasma
RF induction plasma
aluminium content
BET surface area
HR-TEM
Pokaż więcej
Data publikacji:
2016
Wydawca:
Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Przemysłu Organicznego
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Pozycja nr 9: Preparation of Nano Aluminium Powder (NAP) using a Thermal Plasma: Process Development and Characterization. Przejdź do szczegółów egzemplarza
Artykuł
Tytuł:
High Purity Tungsten Spherical Particle Preparation From WC-Co Spent Hard Scrap
Wytwarzanie wysokiej czystości sferycznych cząstek wolframu z twardego złomu WC-Co
Autorzy:
Han, C.
Na, H.
Choi, H.
Kim, Y.
Tematy:
WC-Co
spent hard scrap
hydrometallurgy
RF thermal plasma
twardy złom
hydrometalurgia
plazma termiczna
Pokaż więcej
Data publikacji:
2015
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Pozycja nr 10: High Purity Tungsten Spherical Particle Preparation From WC-Co Spent Hard Scrap. Przejdź do szczegółów egzemplarza
Artykuł
Tytuł:
High Purity Tungsten Spherical Particle Preparation From WC-Co Spent Hard Scrap
Wytwarzanie wysokiej czystości sferycznych cząstek wolframu z twardego złomu WC-Co
Autorzy:
Han, C.
Na, H.
Choi, H.
Kim, Y.
Tematy:
WC-Co
spent hard scrap
hydrometallurgy
RF thermal plasma
twardy złom
hydrometalurgia
plazma termiczna
Pokaż więcej
Dostawca treści:
BazTech
Pozycja nr 11: High Purity Tungsten Spherical Particle Preparation From WC-Co Spent Hard Scrap. Przejdź do szczegółów egzemplarza
Artykuł
Tytuł:
Modelowanie rozkładu energetycznego jonów w plazmie w. cz. przez dopasowanie teoretycznych profili poimplantacyjnych do profilu uzyskanego z pomiarów SIMS
A novel method of energy distribution of ions in r. f plasma evaluation by compared fluorine distribution profiles simulated by SRIM with fluorine distribution profile obtained by SIMS
Autorzy:
Kalisz, M.
Beck, R. B.
Tematy:
plazma wysokiej częstotliwości
bardzo płytka implantacja jonów
profile rozkładu fluoru
reaktywne trawienie jonowe
RF plasma
ultra-shallow ion implantation
fluore distribution profiles
ion energy spectrum
reactive ion etching
Pokaż więcej
Dostawca treści:
BazTech
Pozycja nr 12: Modelowanie rozkładu energetycznego jonów w plazmie w. cz. przez dopasowanie teoretycznych profili poimplantacyjnych do profilu uzyskanego z pomiarów SIMS. Przejdź do szczegółów egzemplarza
Artykuł
Tytuł:
Badanie wpływu konfiguracji elektrody na rozkład pola świecenia wyładowania wielkiej częstotliwości
Examination of the electrode configuration influence on the RF plasma discharge area
Autorzy:
Grabarczyk, J.
Lewandowski, P.
Tematy:
plazma w.cz.
emisja optyczna plazmy
konfiguracja elektrody
obszary wyładowania plazmowego
plasma RF
optical emission of plasma
electrode configuration
plasma discharge area
Pokaż więcej
Dostawca treści:
BazTech
Pozycja nr 13: Badanie wpływu konfiguracji elektrody na rozkład pola świecenia wyładowania wielkiej częstotliwości. Przejdź do szczegółów egzemplarza
Artykuł
Tytuł:
Plazma niskociśnieniowa w inżynierii powierzchni
Low-pressure-plasma in the surface engineering
Autorzy:
Betiuk, M.
Tematy:
plazma niskociśnieniowa
plazma DC
plazma AC
plazma RF
plazma MF
azotowanie jarzeniowe
PA PVD-Arc
PA PVD-MS
PA PVD-BARE
powłoki PVD
low-pressure plasma
plasma DC
plasma AC
plasma RF
plasma MF
glow-discharge nitriding
BYE-BYE PVD-MS
PVD-BARE
PVD coatings
Pokaż więcej
Dostawca treści:
BazTech
Pozycja nr 14: Plazma niskociśnieniowa w inżynierii powierzchni. Przejdź do szczegółów egzemplarza
Artykuł
Tytuł:
Methane cracking and secondary hydrocarbon generation in inductively coupled RF plasmas
Autorzy:
Tabarés, F. L.
Alegre, D.
Mozetič, M.
Vesel, A.
Tematy:
plasma
RF discharges
hydrocarbon cracking
methane reforming
plasma-assisted chemical vapour deposition (PACVD)
carbon films
Pokaż więcej
Data publikacji:
2012
Wydawca:
Instytut Chemii i Techniki Jądrowej
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Pozycja nr 15: Methane cracking and secondary hydrocarbon generation in inductively coupled RF plasmas. Przejdź do szczegółów egzemplarza
Artykuł
Tytuł:
Methane cracking and secondary hydrocarbon generation in inductively coupled RF plasmas
Autorzy:
Tabarés, F. L.
Alegre, D.
Mozetič, M.
Vesel, A.
Tematy:
plasma
RF discharges
hydrocarbon cracking
methane reforming
plasma-assisted chemical vapour deposition (PACVD)
carbon films
Pokaż więcej
Dostawca treści:
BazTech
Pozycja nr 16: Methane cracking and secondary hydrocarbon generation in inductively coupled RF plasmas. Przejdź do szczegółów egzemplarza
Artykuł
Tytuł:
Wstępna analiza właściwości powłok węglowych wytwarzanych za pomocą metody MW/RF na powierzchni pirolitycznego węgla
Properties of carbon coatings deposited on pyrolytic carbon using MW/RF method - preliminary analysis
Autorzy:
Król, A.
Kaźmierczak, T.
Kaczorowski, W.
Tematy:
PyC
MW/RF
powłoki węglowe
plazma
zwilżalność
carbon coatings
plasma
wettability
Pokaż więcej
Data publikacji:
2011
Wydawca:
Akademia Górniczo-Hutnicza im. Stanisława Staszica w Krakowie. Polskie Towarzystwo Biominerałów
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Pozycja nr 17: Wstępna analiza właściwości powłok węglowych wytwarzanych za pomocą metody MW/RF na powierzchni pirolitycznego węgla. Przejdź do szczegółów egzemplarza
Artykuł
Tytuł:
Wstępna analiza właściwości powłok węglowych wytwarzanych za pomocą metody MW/RF na powierzchni pirolitycznego węgla
Properties of carbon coatings deposited on pyrolytic carbon using MW/RF method - preliminary analysis
Autorzy:
Król, A.
Kaźmierczak, T.
Kaczorowski, W.
Tematy:
PyC
MW/RF
powłoki węglowe
plazma
zwilżalność
carbon coatings
plasma
wettability
Pokaż więcej
Dostawca treści:
BazTech
Pozycja nr 18: Wstępna analiza właściwości powłok węglowych wytwarzanych za pomocą metody MW/RF na powierzchni pirolitycznego węgla. Przejdź do szczegółów egzemplarza
Artykuł
Tytuł:
Optimization of radio frequency inductively coupled plasma enhanced chemical vapour deposition process of diamond-like carbon films
Autorzy:
Kijaszek, W.
Oleszkiewicz, W.
Tematy:
diamond-like carbon
radio frequency inductively coupled plasma enhanced chemical vapour deposition RF ICP PECVD
Raman scattering spectroscopy
spectroscopic ellipsometry
Pokaż więcej
Data publikacji:
2016
Wydawca:
Politechnika Wrocławska. Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Pozycja nr 19: Optimization of radio frequency inductively coupled plasma enhanced chemical vapour deposition process of diamond-like carbon films. Przejdź do szczegółów egzemplarza
Artykuł
Tytuł:
Otrzymywanie i właściwości warstw a-Si:H do zastosowań w fotowoltaice
Properties of amorphous silicon layers (a-Si:H) deposited by plasma assisted CVD
Autorzy:
Pieczyńska, E.
Boszkowicz, P.
Jurzecka-Szymacha, M.
Tematy:
amorficzny krzem (a-Si:H)
Plasma Assisted Chemical Vapour Deposition PACVD
PACVD
elipsometria
Amorphous silicon layers
Radio Frequency Plasma Assisted Chemical Vapour Deposition
RF PACVD
solar cells
ellipsometry
Pokaż więcej
Dostawca treści:
BazTech
Pozycja nr 20: Otrzymywanie i właściwości warstw a-Si:H do zastosowań w fotowoltaice. Przejdź do szczegółów egzemplarza
Artykuł
Tytuł:
Optimization of radio frequency inductively coupled plasma enhanced chemical vapour deposition process of diamond-like carbon films
Autorzy:
Kijaszek, W.
Oleszkiewicz, W.
Tematy:
diamond-like carbon
radio frequency inductively coupled plasma enhanced chemical vapour deposition RF ICP PECVD
Raman scattering spectroscopy
spectroscopic ellipsometry
Pokaż więcej
Dostawca treści:
BazTech
Pozycja nr 21: Optimization of radio frequency inductively coupled plasma enhanced chemical vapour deposition process of diamond-like carbon films. Przejdź do szczegółów egzemplarza
Artykuł
Tytuł:
Warstwy nanokrystalicznego diamentu na narzędzia skrawające do obróbki materiałów drewnopochodnych
Generation of plasma spraying of nanocrystalline diamond coating in the cutting tools for wood-base materials
Autorzy:
Niedzielski, P.
Grabarczyk, J.
Dudek, M.
Tematy:
diament nanokrystaliczny
warstwa
narzędzie skrawające
węglik spiekany
materiał drewnopodobny
metoda plazmy wysokiej częstotliwości
trwałość
własności mechaniczne
nanocrystalline diamond
coating
cutting tool
sintered carbides
wood-base materials
plasma spraying
RF PCVD method
life of cutting tools
mechanical properties
Pokaż więcej
Dostawca treści:
BazTech
Pozycja nr 22: Warstwy nanokrystalicznego diamentu na narzędzia skrawające do obróbki materiałów drewnopochodnych. Przejdź do szczegółów egzemplarza
Artykuł
Tytuł:
ARIES 2018 : infrastructure, innovation, outreach
Autorzy:
Romaniuk, Ryszard S.
Tematy:
particle accelerators
accelerator science and technology
novel accelerators
high field magnets
superconducting magnets
RF particle guns
particle detectors
high energy physics
applications of particle accelerators
laser and plasma accelerators
community and social implications of ARIES
EC Integrating Introduction
Pokaż więcej
Data publikacji:
2019
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Pozycja nr 23: ARIES 2018 : infrastructure, innovation, outreach. Przejdź do szczegółów egzemplarza
Artykuł
Tytuł:
ARIES 2018 : infrastructure, innovation, outreach
Autorzy:
Romaniuk, Ryszard S.
Tematy:
particle accelerators
accelerator science and technology
novel accelerators
high field magnets
superconducting magnets
RF particle guns
particle detectors
high energy physics
applications of particle accelerators
laser and plasma accelerators
community and social implications of ARIES
EC Integrating Introduction
Pokaż więcej
Dostawca treści:
BazTech
Pozycja nr 24: ARIES 2018 : infrastructure, innovation, outreach. Przejdź do szczegółów egzemplarza
Artykuł
    Wyświetlanie 1-24 z 24

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies