- Tytuł:
- The role of fluorine-containing ultra-thin layer in controlling boron thermal diffusion into silicon
- Autorzy:
-
Kalisz, M.
Beck, R. B.
Barcz, A.
Ćwil, M. - Tematy:
-
fluorine
reactive ion etching
silicon fluoride
boron thermal diffusion
fluorocarbon plasma - Pokaż więcej
- Data publikacji:
- 2007
- Wydawca:
- Instytut Łączności - Państwowy Instytut Badawczy
- Dostawca treści:
- Biblioteka Nauki
Artykuł